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我的位置：首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  半導(dǎo)體烘烤設(shè)備  >  
  • 無(wú)氧化烘箱，無(wú)塵無(wú)氧固化烤箱
    無(wú)氧化烘箱，無(wú)塵無(wú)氧固化烤箱，半導(dǎo)體高溫烤箱應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求。適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè)。
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    2025-09-16
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  • 硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng)，芯片hmds烘箱
    硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng)，芯片hmds烘箱用在芯片、晶圓、硅片等半導(dǎo)體在光刻前對(duì)wafer進(jìn)行預(yù)處理,在高溫高真空的狀態(tài)下均勻噴灑霧狀“OAP”藥液并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下烘干以增強(qiáng)wafer的光刻性能。
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  • 前烘潔凈烘箱，軟烘充氮烘箱 真空干燥烘箱
    前烘潔凈烘箱，軟烘充氮烘箱涂膠后，晶片須經(jīng)過(guò)一次烘烤，稱之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常，軟烘時(shí)間越短或溫度越低會(huì)使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高。
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  • 晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱
    晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱潔凈度100級(jí)的潔凈熱處理HEPA過(guò)濾器與前出風(fēng)型水平層流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級(jí)潔凈度。Z小限度控制風(fēng)速距離。
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  • 無(wú)氧烘箱、防氧化烤箱
    無(wú)氧烘箱、防氧化烤箱無(wú)氧烘箱，在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：IC包裝，LCD,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板。
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